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真兴动态

模具硬铬电镀为您介绍硬铬电镀工艺

 一、特点

  1、高阴极电流效率,可达22~30%。

  2、高沉积速度,一般是传统镀铬的2~3倍。

  3、不会腐蚀阴极低电流密度区的底材。

  4、镀层硬度达HV900~1200。

  5、微裂纹数达1000条/寸。

  6、镀层厚度均匀,有良好的分散能力。

  7、镀液维护容易,控制简单。

  8、无固体添加之铬尘和溅水现象。

  9、无阳极腐蚀,勿须使用特殊阳极。

     二、硬铬电镀镀液配方和操作条件 

 

      成份及物理参数 范围 标准 铬酐 180~275克/升 220克/升 硫酸 2.4~4.0克/升 2.5克/升 温度 58~75℃ 65℃ 阴极电流密度 15~90 A/分米2 60A/分米2 阳极电流密度 15~35A/分米2 30A/分米2

      三、镀液的配制

  1、在槽中放入2/3的去离子水,按上表计算,将所需的铬酸、硫酸加入镀槽中。

  2、硬铬电镀再将HA高效硬铬光亮剂Q加入镀槽,添加去离子水,至所需之液位高度。

  3、加热至55~60℃。

  4、分析硫酸浓度、铬酸浓度,并调整至工艺规范。

  5、电解4~6小时。

  6、开始作业。

      四、转缸与前处理

  由一般传统的硬铬镀液转为HA全光亮硬铬工艺的程序非常简单,只须将镀液送交硬铬电镀化验,经确定无机杂质不超过7.5克/升,同时不含氟化物、稀土、磺酸类低温添加剂,则本公司将协助客户将镀液转成HA全光亮硬铬工艺。

  HA全光亮硬铬工艺之前处理与一般传统硬铬电镀相同,无需经过特殊程序的处理。


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